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福晶科技申请法拉第旋光片表面减反射膜及其制备方法专利，减少反射膜层的反射

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金融界2024年1月17日消息，据国家知识产权局公告，福建福晶科技股份有限公司申请一项名为“一种法拉第旋光片表面减反射膜及其制备方法“，公开号CN117406313A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，本发明提供了一种法拉第旋光片表面减反射膜及其制备方法，膜系包括稀土铁石榴石(RIG)材料的法拉第旋光片基底，以及在基底两侧对称设置的减反射膜层。所述减反射膜靠近基底表面的第一层为SiO。

本文源自金融界

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